平面研磨機(jī)研磨的不平整
發(fā)布日期： 2021-01-05 瀏覽人數(shù)：
手工研磨主要用于單件小批量生產(chǎn)和修理工作。手工研磨勞動(dòng)強(qiáng)度大并且要求操作者技術(shù)熟練，技藝水平高。機(jī)械研磨用于大批量生產(chǎn)中。
手工研磨一般采用平板，材質(zhì)為高碳鑄鐵材料
機(jī)械研磨是將工件放在旋轉(zhuǎn)的磨具上進(jìn)行研磨，磨具一般為圓形研磨盤(pán)。
機(jī)械研磨的磨盤(pán)材質(zhì)通常為鑄鐵，拋光盤(pán)為鋼盤(pán)、銅盤(pán)。絨面、綢面盤(pán)常用于拋光堆焊硬質(zhì)合金、銅合金、不銹鋼等密封環(huán)。
金屬研磨盤(pán)的表面平整，無(wú)瑕疵，平面度需要修整到0.05/1000mm以下。盤(pán)的半徑至少要設(shè)計(jì)成被加工工件直徑的兩倍以上。其直徑范圍一般為305~1620mm（16~64in），厚度大致是直徑的1/10~1/6。盤(pán)面開(kāi)有溝槽！研磨機(jī)是機(jī)械密封制造行業(yè)中使用的研磨設(shè)備。它由床身、底座、減速箱體、研磨盤(pán)、控制環(huán)（亦稱(chēng)擋圈或修正環(huán)）、限位支承架等組成，研磨時(shí)，工件放在控制環(huán)內(nèi)，用塑料隔離環(huán)把工件均勻排布在控制環(huán)內(nèi)，通過(guò)壓重施加研磨壓力，當(dāng)研磨盤(pán)旋轉(zhuǎn)時(shí)控制環(huán)在限位支承架內(nèi)旋轉(zhuǎn)，工件除了自轉(zhuǎn)外還隨同控制環(huán)在研磨盤(pán)上公轉(zhuǎn)，在磨料作用下，不斷研磨表面！
研磨盤(pán)的平而度和直線(xiàn)性，采用光隙量法檢查較為方便，且測(cè)量精度較高。檢查方法是：先將研磨盤(pán)被檢部位洗凈，并用溶劑擦去油膜，再將刀口尺的刀口與被檢平面接觸；在刀口尺的后面放一光源，然后從刀口 尺的前面觀察被檢平面與刀口之間的漏光間隙，可以由漏光間隙大小來(lái)確定，如果用塞尺檢查，一般應(yīng)小于0.02mm。
1.研磨劑要攪動(dòng)呈懸浮狀態(tài)，以防堵塞電磁閥。
2.控制環(huán)內(nèi)的工件之間的間隙要合適。間隙過(guò)大則造成研磨時(shí)工件互相撞擊產(chǎn)生劃傷或破裂，間隙過(guò)小則使工件不能隨控制環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)，工件表面的每個(gè)點(diǎn)在研磨盤(pán)上的摩擦軌跡就會(huì)疏密不等，影響密封環(huán)的平面度，有時(shí)甚至?xí)构ぜ斊�，造成研磨表面偏斜。只有使工件在控制環(huán)中平穩(wěn)靈活的轉(zhuǎn)動(dòng)，才能使工件在研磨盤(pán)上獲得均勻的摩擦軌跡，保證工件的加工質(zhì)量。
3.經(jīng)常清潔研磨機(jī)出料流道，防止堆積磨料溢流到減速箱軸承座內(nèi)。
4.采用水溶性研磨劑時(shí)，要防止研磨盤(pán)表面生銹。此時(shí)每天工件結(jié)束時(shí)，要將控制環(huán)從研磨盤(pán)上取出，將研磨盤(pán)洗干凈、吹干。二天使用時(shí)要擦掉銹跡再使用。
5.雙端面研磨機(jī)做到研磨盤(pán)專(zhuān)盤(pán)專(zhuān)用。研磨機(jī)在使用中，注意保持清潔，特別是在拋光及研磨的后幾步工序中，因?yàn)榫信c拋光磨料粒徑不一樣，要防止精研的磨料帶入拋光研磨盤(pán)上，否則拋光時(shí)會(huì)出現(xiàn)劃道，因此要把拋光、精研加工分開(kāi)，沒(méi)臺(tái)研磨機(jī)固定使用。拋光欠要將精研的工件清洗干凈，用超聲波清洗器清洗、晾干后再進(jìn)行拋光。
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