平面研磨設(shè)備的研磨形式介紹

    隨著人們對手機(jī)的需求越來越大，平面研磨設(shè)備行業(yè)得到快速發(fā)展。平面研磨機(jī)按國家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量檢定規(guī)程執(zhí)行，分別為1、2、3、精刨五個(gè)等級。1級平面研磨機(jī)要求接觸斑點(diǎn)數(shù)在任意25×25mm平面內(nèi)不少于20點(diǎn)，2級平面研磨機(jī)要求接觸斑點(diǎn)數(shù)在任意25×25mm平面內(nèi)不少于12點(diǎn)，3級平面研磨機(jī)未規(guī)定接觸斑點(diǎn)要求。有人問平面研磨機(jī)的研磨方法有哪些呢？

一、電化學(xué)研磨：這種研磨方法的優(yōu)點(diǎn)是鏡面光澤保持的長，工藝較為穩(wěn)定，污染少并且成本是比較低的，還有就是防腐蝕性是很好的；但是缺點(diǎn)是防污染性高，對于加工設(shè)備的一次性投資是比較大的，復(fù)雜件要工裝、輔助電極以及需要大量的生產(chǎn)降溫設(shè)施。

二、機(jī)械研磨：這種研磨方法的有點(diǎn)是加工后零件的整平性是很好的，光亮度也高；但是缺點(diǎn)是勞動(dòng)的強(qiáng)度比較大，污染較為嚴(yán)重，對于復(fù)雜的零件時(shí)無法加工的，還有就是他的光澤是不一致的。

三、化學(xué)研磨：這種研磨方法的有點(diǎn)是加工設(shè)備投資少，復(fù)雜件也是可以進(jìn)行研磨的，速度快比較效率高；缺點(diǎn)是光亮度差、氣體容易溢出。